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日本acti-ve台式抛光机ACT-220AII：实验室高效抛光实用技术

发布时间： 2025-09-23　　点击次数： 39次

在材料科学、半导体制造和光学研究等领域，高精度的抛光工艺是确保实验和生产成功的关键因素之一。日本acti-ve推出的ACT-220AII台式抛光机以其性能和广泛的应用，成为实验室和工业生产的理想选择。
突出特点
高精度控制：ACT-220AII提供0-7000rpm的旋转速度范围，精度高达±1rpm，确保薄膜的均匀性，满足不同材料和工艺的需求。
多段式程序控制：具备10步程序控制和100种模式记忆功能，可灵活设置不同工艺参数，适应多样化的实验和生产需求。
安全保护：配备安全盖，带有磁性传感器，当安全盖打开时，无法启动程序，旋转中打开安全盖，机器将自动停止旋转，确保操作安全。
真空吸附：真空吸附功能可牢固固定基板，防止在抛光过程中移位，提高抛光效果的稳定性。
紧凑设计：外形尺寸为W250×D330×H272mm，重量约18kg，占地面积小，便于在实验室中灵活摆放。
应用领域
半导体制造：用于半导体晶片的抛光，确保表面平整度和清洁度，提高芯片的性能和可靠性。
太阳能电池生产：在太阳能电池制造过程中，对硅片进行抛光处理，提升光电转换效率。
光学透镜加工：对光学透镜进行高精度抛光，提高透镜的光学性能，减少光散射和反射。
纳米技术与生物医学：在纳米材料和生物医学研究中，对样品进行精细抛光，为后续的分析和实验提供高质量的样品。
液晶显示器制造：用于LCD面板的抛光，确保显示效果的均匀性和清晰度。
实验与研究：在高校和科研机构的实验室中，用于各种材料的抛光实验，为科研工作提供有力支持。
日本acti-ve台式抛光机ACT-220AII以其高性能、高精度和广泛的应用场景，成为实验室和工业生产中的设备。无论是半导体制造、光学加工还是纳米技术研究，ACT-220AII都能提供可靠的抛光解决方案，助力科研和生产的发展。

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