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日本Sakigakes真空等离子体装置YHS-R 薄膜形成预处理的高效解决方案

发布时间： 2025-07-29　　点击次数： 17次

在薄膜制造领域，表面预处理是确保薄膜质量的关键步骤之一。日本Sakigakes的YHS-R真空等离子体装置凭借其高效、紧凑的设计，为薄膜形成前的预处理提供了一种理想的解决方案。
设备特点
YHS-R是一款桌面型真空等离子体装置，具有紧凑的结构和便于操作的特点。其外形尺寸为220mm（宽）×250mm（深）×300mm（高），重量仅为6.8公斤，非常适合实验室和小规模生产环境。该设备的上下电极分别采用铝和不锈钢材料，能够满足多种材料的处理需求。
薄膜形成预处理的应用
在薄膜形成前的预处理过程中，YHS-R能够有效改善基材表面的清洁度和活性，从而提高薄膜的附着力和均匀性。等离子体处理可以去除表面的有机污染物，同时引入极性基团，增强基材与薄膜之间的化学键合。这种预处理方式对于提高薄膜的性能和质量至关重要。
技术参数
平台尺寸：φ100mm
电源：单相100V，50/60Hz，5.0A
可选支持：气体引入、压力调整、电源控制等（需额外付费）
操作与维护
YHS-R的操作非常简便，配备放电定时器和复位开关，用户可以根据需要灵活调整处理时间和操作模式。此外，设备的维护也非常方便，带有AC100V插座，便于连接和使用。
总结
日本Sakigakes的YHS-R真空等离子体装置以其高效、紧凑的设计和简便的操作，为薄膜形成前的预处理提供了一种理想的解决方案。它不仅能够显著提高薄膜的附着力和均匀性，还能有效改善基材表面的清洁度和活性。对于需要进行薄膜制造的实验室和小规模生产环境来说，YHS-R无疑是一个值得考虑的选择。

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薄膜形成预处理的应用

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