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日本Shinkuu全自动小型涂布机MSP-40T:实验室薄膜沉积的理想选择
发布时间: 2025-05-26 点击次数: 47次在材料科学、电子显微镜样品制备以及纳米技术研究中,精确的薄膜涂布是实现高质量实验和产品开发的关键步骤。日本Shinkuu公司推出的MSP-40T全自动小型涂布机以其高效、全自动化的操作和薄膜沉积性能,成为实验室和研发环境中理想的涂布解决方案。
一、技术参数
设备类型:多用途实验沉积系统,配备全自动沉积功能。
尺寸与重量:小型桌面型设计,适合小空间使用。
电源:AC100V,15A。
真空系统:配备涡轮泵和隔膜泵,可实现清洁的高真空环境。
靶材:支持多种金属靶材,包括金、银、铂、钨等。
沉积方式:通过强磁场实现高效薄膜沉积。
二、功能特点
全自动操作:只需设置涂层时间并按下开始按钮,即可自动完成沉积过程,操作简便。
高效沉积:结合高速排气系统,能够快速完成薄膜沉积,提高实验效率。
高真空环境:通过涡轮泵和隔膜泵实现清洁的高真空,确保薄膜沉积的高质量。
多种靶材选择:支持多种金属靶材,满足不同实验需求。
安全设计:配备联锁功能,防止操作错误。
三、应用场景
MSP-40T全自动小型涂布机广泛应用于以下领域:
电子显微镜样品制备:为扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)样品提供高质量的导电涂层。
半导体制造:用于半导体制造过程中的薄膜沉积。
纳米材料研究:适用于纳米薄膜、纳米复合材料等研究。
材料科学:用于研究高性能薄膜材料的制备和性能。
四、总结
日本Shinkuu MSP-40T全自动小型涂布机以其高效、全自动化的操作和薄膜沉积性能,为实验室和研发环境中的薄膜制备提供了一个理想的解决方案。它不仅能够满足多种材料和应用的需求,还能通过高真空环境和多种靶材选择,确保薄膜沉积的高质量。对于需要高效、精确薄膜沉积的用户来说,MSP-40T无疑是一个值得信赖的选择。
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