Tokyo Keiso VF3000流量传感器：半导体制造流程的理想选择-深圳市秋山贸易有限公司

技术文章ARTICLE

您当前的位置：首页 > 技术文章 > Tokyo Keiso VF3000流量传感器：半导体制造流程的理想选择

Tokyo Keiso VF3000流量传感器：半导体制造流程的理想选择

发布时间： 2025-05-09　　点击次数： 106次

　　在半导体制造过程中，对超纯水、水、低粘度药液等的流量管理至关重要。为此，日本Tokyo Keiso公司推出了VF3000系列涡街流量传感器，该产品以其结构简单、清洁度高而著称，非常适合用于这些精密流体的流量控制。

　　产品特点

　　VF3000流量传感器采用PFA(全氟烷氧基树脂)材质，这种材料以其优异的耐腐蚀性和纯净度而广泛应用于半导体制造领域。传感器的设计简洁，易于清洁，有助于维持流体的超纯度，避免污染。此外，VF3000还具有以下特点：

　　高清洁度：所有接触流体的部分均采用PFA材质，确保了流体的纯净度。

　　宽流量范围：能够测量从0.3升/分钟到150升/分钟的流量，适用于多种应用场景。

　　高可靠性：采用卡尔曼涡旋检测方法，提高了测量的准确性和可靠性。

　　低压降：设计优化，减少了流体通过时的压力损失。

　　维护简便：由于结构简单，减少了维护需求。

　　技术规格

　　VF3000系列流量传感器的技术规格如下：

　　测量流体：超纯水、纯水、水、低粘度化学品。

　　流体温度：0 ~ 90°C。

　　流体压力：0 ~ 0.5 兆帕。

　　流量范围：根据型号不同，从0.3升/分钟到150升/分钟不等。

　　精度：±3% F.S.。

　　材料：身体和管道采用新PFA，接头可采用PFA或NewPFA，涡旋探测器采用压电元件(用新PFA模制)。

　　过程连接：PFA管端或各种接头，连接管尺寸根据型号不同而有所差异。

　　输出：提供电流输出、脉冲输出和带电流/报警输出的显示模式。

　　电源：直流10.8 ~ 26.4V、0.5 ~ 2W。

　　防护等级：IP64(JIS C0920 防睫毛结构)。

　　应用场景

　　VF3000系列流量传感器适用于半导体制造过程中的超纯水、水、低粘度药液等的流量管理。此外，它还适用于需要高清洁度的其他工业应用，如制药、食品加工等。

　　结论

　　Tokyo Keiso的VF3000系列流量传感器以其高清洁度、宽流量范围和高可靠性，成为半导体制造过程中理想的流量控制解决方案。其简洁的设计和优异的性能使其在多种工业应用中都能发挥重要作用。

下一篇：日本比良HIRA CERAMICS高纯度氧化铝球：工业研磨的选择

上一篇：探索日本toyo微米级油中粒子计测器PI-1000：高精度监测与维护优化

产品中心 Products