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日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无

Name: 日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无1
Brand: 其他品牌
Price: 10 CNY
Availability: InStock

更新日期：2026-05-14

访问量：14

厂商性质：经销商

生产地址：日本

简要描述：

日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无，可独立控温实现两种金属共蒸镀，适配半导体、光学薄膜制备等科研场景，结构紧凑，维护便捷，适合实验室镀膜工艺研发。

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产品介绍

一、产品概述

日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无，是专为超高真空（UHV）镀膜系统设计的双坩埚式电阻加热蒸发源。它通过独立的加热回路实现两种金属材料的精准控温与蒸发，可用于制备合金、化合物薄膜，广泛应用于半导体、光学器件、材料科学等领域的实验与研发。

二、核心特点

✅ 二元材料独立控制，支持共蒸镀工艺双坩埚设计，每个坩埚配备独立的加热灯丝与控温电路，可分别调节两种金属的蒸发速率，实现精确配比的合金 / 化合物薄膜沉积，满足科研工艺对材料组分的控制需求。

✅ 超高真空适配，低污染设计专为 UHV 环境优化，采用低出气率材料，可在 10⁻⁸Pa 级高真空条件下稳定工作，减少杂质污染，保障薄膜质量，适配半导体、光学等高洁净度镀膜场景。

✅ 紧凑型法兰式结构，易集成安装采用标准真空法兰接口，体积小巧，占用腔室空间小，可直接安装在各类小型真空镀膜设备上，便于集成到现有实验系统中。

✅ 可拆卸式坩埚与灯丝，维护便捷坩埚与灯丝组件可拆卸，材料更换、清洁维护操作简单，适合多批次、多材料的实验研发，降低实验成本与维护难度。

✅ 适配多种低 / 中熔点金属可对金、银、铝、铜、铬等多种金属材料进行蒸发，通用性强，满足不同实验的材料需求。

三、基础参数

表格

项目	详情
品牌	北野精机（Kitano Seiki，日本）
型号	KMDW-Cell
工作原理	电阻加热式蒸发，双坩埚独立控温
适配环境	超高真空（UHV）环境
安装方式	标准真空法兰安装
适用材料	金、银、铝、铜、铬等低 / 中熔点金属
结构特点	可拆卸式坩埚与灯丝组件，维护便捷

四、日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无适用场景

半导体与微电子工艺：金属电极、接触层、阻挡层的蒸镀制备，实现低电阻率金属薄膜沉积。
光学薄膜制备：金属反射膜、吸收膜的制备，适配光学器件、传感器的镀膜需求。
材料科学研究：合金薄膜、金属基复合材料的制备，用于材料性能表征与工艺研究。
基础物理实验：超高真空环境下的金属薄膜生长、表面科学研究，支持多种金属材料的可控沉积。

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日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无

一、产品概述

二、核心特点

三、基础参数

四、日本北野精机 KMDW-Cell 二元金属蒸发源无适用场景

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