微米级镜面喷涂工艺：Fusoseiki MK-3 在精密光学涂层中的应用研究-深圳市秋山贸易有限公司

技术文章ARTICLE

您当前的位置：首页 > 技术文章 > 微米级镜面喷涂工艺：Fusoseiki MK-3 在精密光学涂层中的应用研究

微米级镜面喷涂工艺：Fusoseiki MK-3 在精密光学涂层中的应用研究

发布时间： 2026-01-06　　点击次数： 11次

　　节拍。

　　低重力供液：0–140 mL min⁻¹ 无脉动线性调节，配合齿轮泵闭环反馈，厚度重复性 ±1 nm(以 550 nm 波长反射率监控)。

　　三、工艺路线与实验设计

　　步骤 1：基板清洗

　　– 顺序超声(RBST105→去离子水→丙酮→乙醇)，60 °C 热风 30 min；

　　– UV/O₃ 处理 10 min，表面接触角 < 5°，确保后续液滴铺展。

　　步骤 2：喷涂参数矩阵

　　采用 Box-Behnken 设计，变量：枪距 A(150–250 mm)、雾化压 B(0.15–0.25 MPa)、走枪速度 C(50–150 mm s⁻¹)、供液量 D(20–60 mL min⁻¹)。响应值：膜厚均匀性 U = (t_max – t_min)/t_avg、粗糙度 Rq、激光损伤阈值。

　　步骤 3：在线监测

　　– 激光位移传感器(KEYENCE LJ-V7300)扫描，实时输出 2D 厚度云图；

　　– 光谱椭偏(J. A. Woollam M-2000)闭环反馈，终止条件：|n·d – target| < 0.2 nm。

　　四、结果与讨论

　　厚度均匀性

　　参数：A = 200 mm，B = 0.20 MPa，C = 100 mm s⁻¹，D = 30 mL min⁻¹，单道湿膜 0.8 µm，烘干后 95 nm。在 Ø 150 mm 区域测得 U = 1.7 %，优于旋涂对比样 4.5 %。

　　表面粗糙度

　　AFM 10 µm × 10 µm 扫描显示 Rq = 0.28 nm，接近基板本征值 0.25 nm；无桔皮、无 Mie 散射点。

　　光学性能

　　– 193 nm 增透膜：单面反射率由 7.2 % 降至 0.15 %(VUV 分光光度计)；

　　– 355 nm 高反膜：损伤阈值 18 J cm⁻²(8 ns，1-on-1)，较 e-beam 蒸镀提升 22 %。

　　工艺放大

　　在 Ø 400 mm、R 2 m 的轻量化 SiC 镜坯上完成 27 层 HfO₂/SiO₂ 高反膜，面形变化 ΔPV < 30 nm(ZYGO DynaFiz 干涉仪)，满足太空激光通信 λ/20 要求。

　　五、结论与展望

　　Fusoseiki MK-3 通过“微米级雾化 + 低动能沉积”组合，成功将喷涂工艺推进到光学级精度，为复杂曲面、大口径及热敏感基底提供了低应力、高效率的涂层方案。未来工作将聚焦：

　　与超临界 CO₂ 干燥集成，消除毛细力导致的龟裂；

　　开发 1 μm 以下超细雾滴喷嘴，实现单纳米层厚控制；

　　结合 AI 视觉闭环，实现“边喷边抛”一体化智能制造。

下一篇：KJTD USG-X钢筋连接部检测仪：超声相控阵技术在结构健康监测中的应用

上一篇：Sumita LS-L150 LED 冷光源：为机器视觉提供低热辐射高光通量解决方案

产品中心 Products