日本Atomax BN系列二流体喷嘴：半导体行业去胶剥离机效率提高的解决方案-深圳市秋山贸易有限公司

技术文章ARTICLE

您当前的位置：首页 > 技术文章 > 日本Atomax BN系列二流体喷嘴：半导体行业去胶剥离机效率提高的解决方案
日本Atomax BN系列二流体喷嘴：半导体行业去胶剥离机效率提高的解决方案

发布时间： 2025-08-25　　点击次数： 6次

在半导体制造过程中，全自动去胶剥离机的性能对于提高生产效率和产品质量至关重要。日本Atomax公司推出的BN系列二流体喷嘴，凭借其高流量处理能力和稳定的雾化性能，为半导体行业的全自动去胶剥离机提供了高效的解决方案。
技术特点
高流量处理能力：BN系列喷嘴在AM系列的基础上扩展了喷雾流量范围，能够稳定处理更高流量的喷雾需求。该系列包括BN90、BN160、BN200、BN500和BN1000等型号，液体喷雾端口直径从φ2.0mm至φ6.0mm。
防堵塞性能：保持了Atomax喷嘴的防堵塞性能，可连续运转而不堵塞，能够雾化大量处理液。
适应高粘度液体：BN系列喷嘴能够处理高粘度液体，适用于多种应用场景，包括半导体制造中的清洗和喷涂工序。
应用场景
蚀刻后清洗：蚀刻工艺会在晶圆表面留下各种残留物，包括蚀刻副产物、聚合物和未去除的光刻胶。BN系列喷嘴凭借较高的喷雾流量和处理能力，可有效应对这一挑战，显著提高产品良率。
封装基板清洗：在封装过程中，基板表面可能存在灰尘、油脂等污染物，会影响芯片与封装基板之间的连接可靠性。BN系列喷嘴可对封装基板进行高效清洗，确保封装界面的洁净度和良好的电气性能。
CMP后清洗：化学机械抛光后，晶圆表面会残留大量研磨颗粒和抛光液成分。BN系列喷嘴能够处理含有固体颗粒的浆料型清洗液，可连续稳定地清除CMP残留物，提高工艺可靠性。
优势与价值
提高生产效率：BN系列喷嘴的高流量处理能力和稳定的雾化性能，能够显著提高全自动去胶剥离机的生产效率。
降低生产成本：通过减少液体消耗和提高清洗效率，BN系列喷嘴有助于降低生产成本。
提高产品质量：精确的雾化和稳定的性能确保了清洗和喷涂的均匀性，减少了因工艺不均导致的缺陷。
日本Atomax的BN系列二流体喷嘴以其高流量处理能力、防堵塞性能和适应高粘度液体的能力，为半导体行业的全自动去胶剥离机提供了高效、可靠的解决方案，有助于提高生产效率和产品质量。

下一篇：日本Atomax PCF系列二流体喷嘴：高性能工业喷雾解决方案的综合技术剖析

上一篇：日本Atomax极细二流体喷嘴AM系列：电子元件制造薄膜生成的精准解决方案

产品中心 Products

日本Atomax BN系列二流体喷嘴：半导体行业去胶剥离机效率提高的解决方案

技术特点

应用场景

优势与价值