MIKASA MS-B100小型旋转涂布机：实验室薄膜制备的得力助手-深圳市秋山贸易有限公司

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MIKASA MS-B100小型旋转涂布机：实验室薄膜制备的得力助手

发布时间： 2025-07-25　　点击次数： 31次

在半导体制造、微纳加工以及材料科学等众多领域，薄膜制备是关键的工艺环节之一。日本Mikasa公司推出的MS-B100小型旋转涂布机凭借其精准的控制和多样化的功能，成为实验室薄膜制备的可靠选择。
精准的旋转控制
MS-B100采用AC伺服电机，具备无刷式设计，不仅避免了对无尘室的污染，还减少了电机发热，降低了因连续使用导致温度上升对膜厚再现性的影响。其旋转速度范围为50~7500rpm，精度可达±1rpm，能够实现从低速到高速的精确控制。用户可以任意设定旋转速度和达到该速度的时间，从而轻松控制膜厚。
灵活的程序设定
该设备具备强大的程序功能，最多可设置100阶段程序，并能记忆10种模式。这意味着用户可以根据不同的实验需求，预设多种涂布工艺参数，实现自动化操作，提高实验效率和重复性。
适用多种基板
MS-B100的最大基板尺寸为4英寸（75×75mm），能够满足实验室中对较小尺寸基板的旋涂工艺需求。无论是圆形晶圆还是方形基板，都能稳定吸附并进行均匀涂布。此外，设备还配备了数字式真空计，确保基板在涂布过程中牢牢吸附，避免因吸附力不足导致的涂布不均匀。
便捷的操作与安全设计
MS-B100的操作界面简洁直观，用户可以轻松进行参数设置和调整。设备还配备了安全装置，如真空压及盖子联锁机构，当薄膜或晶圆容易破裂时，可以调整安全装置的启动压力，确保实验过程的安全。
广泛的应用场景
MS-B100在半导体制造中可用于光刻胶的均匀涂布，为后续的光刻、蚀刻工艺提供高质量的薄膜。在材料科学领域，可用于制备各种功能薄膜，如导电膜、光学膜等。其低沸点溶剂涂布效果佳，可有效减少光刻胶的使用量。
综上所述，Mikasa MS-B100小型旋转涂布机以其精准的旋转控制、灵活的程序设定、广泛的基板适用性以及便捷安全的操作设计，为实验室薄膜制备提供了高效、可靠的解决方案，是科研人员在薄膜研究和开发过程中的工具。

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MIKASA MS-B100小型旋转涂布机：实验室薄膜制备的得力助手

精准的旋转控制

灵活的程序设定

适用多种基板

便捷的操作与安全设计

广泛的应用场景