日本filmetrics对准自动膜厚测量系统F60
F60自动测绘膜厚测量系统是F50的高精度机型，具有缺口检测、自动基线功能和互锁机制。
只需将样品放在载物台上，然后单击测量按钮即可自动执行对齐、基线和膜厚映射。
主要特点
F50高精度机型，带缺口检测、自动基线功能和互锁机制
自动测量对齐、基线和薄膜厚度映射
主要应用
| 半导体 | 抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
|---|
产品阵容
| 模型 | F60-t | F60-t-UV | F60-t-近红外 | F60-t-EXR |
|---|---|---|---|---|
| 测量波长范围 | 380 – 1050nm | 190 – 1100nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm |
| 膜厚测量范围 | 20nm – 70μm | 5nm – 40μm | 100nm – 250μm | 20nm – 250μm |
| 准确性 | ± 0.2% 薄膜厚度 | ± 0.4% 薄膜厚度 | ± 0.2% 薄膜厚度 | |
| 2纳米 | 1纳米 | 3纳米 | 2纳米 | |
测量示例
可以测量硅晶片上的氧化膜、抗蚀剂等。只需设置样本，对齐、参考等将*自动完成。
硅基板上氧化膜的测量
相关文章
