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日本filmetrics自动测绘膜厚测量系统F50

日本filmetrics自动测绘膜厚测量系统F50

更新日期:2022-08-22

访问量:438

厂商性质:经销商

生产地址:

简要描述:
日本filmetrics自动测绘膜厚测量系统F50
F50自动测绘膜厚测量系统是将基于光学干涉原理的膜厚测量功能与自动高速载物台相结合的系统。

日本filmetrics自动测绘膜厚测量系统F50

F50自动测绘膜厚测量系统是将基于光学干涉原理的膜厚测量功能与自动高速载物台相结合的系统。
以过去无法想象的速度测量规定点的膜厚和折射率。它支持从2英寸到450毫米的硅基板,并且可以规定任何测量点。
还有与大型玻璃基板兼容的可选产品。

主要特点

  • 结合基于光学干涉原理的膜厚测量功能和自动高速载物台的系统

  • 以过去无法想象的速度测量规定点的膜厚和折射率

  • 兼容2英寸至450毫米的硅基板,可规定任何测量点

主要应用

半导体
抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅、抛光硅片、化合物半导体衬底、ⅬT衬底等。
平板单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、
各种光学膜等。
薄膜太阳能电池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化铝镓(AlGaAs)、磷化镓(GaP)等

产品阵容

模型F50-UVF50F50-近红外F50-EXRF50-UVX
测量波长范围190-1100nm380-1050nm950-1700nm380-1700nm190-1700nm
膜厚测量范围5nm-40μm20nm-70μm100nm-250μm20nm-250μm5nm-250μm
准确性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1纳米2纳米3纳米2纳米1纳米
测量光斑直径兼容标准1.5mm
0.5mm、0.2mm、0.1mm(可选)
光源

氘·

卤素

卤素

氘·

卤素




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