一、Canon Anelva M-336MX 水晶离子计 真空计 产品基础信息
| 项目 | 详情 |
|---|---|
| 品牌型号 | Canon Anelva M-336MX 水晶离子计（冷阴极电离真空规） |
| 测量原理 | 潘宁冷阴极电离，依靠磁场约束电离气体，无加热灯丝 |
| 核心用途 | 强工艺腐蚀场景下高真空、超高真空压强检测 |
| 典型应用 | 磁控溅射镀膜、半导体等离子刻蚀、表面分析仪器、真空光学设备 |
二、核心规格参数
| 参数项 | 规格说明 |
|---|---|
| 测量量程 | 10⁻² Pa ~ 10⁻⁹ Pa |
| 腔体材质 | 特种石英（水晶），耐等离子轰击、低放气 |
| 安装接口 | KF16/KF25标准快拆法兰 |
| 适配设备 | Anelva系列真空测控主机 |
| 拓展配件 | 转接法兰、加长线缆、腔体清洗套件可选 |
三、产品核心特点
1.石英水晶腔体适配严苛等离子工况
相较普通硼硅玻璃，石英抗离子轰击、耐化学腐蚀能力更强，可长期用于溅射、反应刻蚀环境，不易被工艺沉积物损伤。
2.无灯丝冷阴极结构，无惧突发破真空
不存在易熔断的热灯丝，腔体意外漏气进气不会损坏规管，适配启停频繁的工业产线，降低耗材成本。
3.极低放气适配无油真空系统
石英材料出气量极低，适配离子泵构建的超高真空体系，不会污染真空腔内样品、光学元件。
4.兼容现有安内尔巴测控系统
可直接对接已有真空计主机，复用报警、通讯、联锁功能，旧设备升级成本低。
四、适用行业场景
真空镀膜：磁控溅射、反应镀膜腔体真空监测；
半导体：等离子刻蚀、沉积工艺真空测控；
科研仪器：SEM、XPS、真空光谱仪超高真空采集。
五、标准操作流程
KF法兰密封安装探头，信号线接入真空测控主机；
腔体预抽达标后启动冷阴极供电测量；泄压无需关闭灯丝，直接开启进气阀即可。
六、Canon Anelva M-336MX 水晶离子计 真空计 日常维护规范
定期清洗腔体内壁镀膜沉积物；更换法兰密封圈；避免硬物磕碰石英腔体。
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