一、产品概述
日本 KDF-75Plus 桌上型真空气体置换炉，是专为实验室与小批量样品处理设计的小型真空热处理设备，集成了加热腔、真空系统与气体置换单元，可在真空或氮气、氩气等惰性气氛下实现样品的烧结、退火、回火等工艺，广泛用于材料科学、电子元件、牙科陶瓷等领域。
二、核心特点
✅ 台式小型设计，实验室场景友好设备体积紧凑，无需专用安装场地，放置在实验台即可使用，适合高校、科研院所的小批量样品实验与教学演示。
✅ 真空 + 气氛保护双模式，工艺适配广内置真空泵，可实现真空环境；同时支持通入惰性气体形成保护气氛，防止样品氧化，适配金属、陶瓷、粉末材料等多种工艺需求。
✅ 1100℃高温 + 程序控温，工艺稳定性高最高使用温度可达 1100℃，支持多段程序控温，可设定升温、保温、降温曲线，保障热处理工艺的稳定性与重复性。
✅ 多重安全防护，使用便捷可靠设备配备超温保护、过流保护、真空异常报警等多重安全功能；操作面板直观易上手，支持数据记录，便于实验过程追溯。
三、基础参数
| 项目 | 详情 |
|---|---|
| 品牌 | KDF（日本） |
| 型号 | KDF-75Plus |
| 最高温度 | 1100℃ |
| 升温时间 | 室温→1100℃约 35 分钟 |
| 炉腔尺寸 | 120×120×120mm |
| 控制方式 | 多段程序控温 |
| 加热功率 | 1.8kW |
| 供电方式 | AC100V/200V |
四、日本 KDF-75Plus 桌上型真空气体置换炉适用场景
金属、陶瓷、粉末材料的真空烧结、退火、回火处理
电子陶瓷、半导体材料的热处理工艺
牙科陶瓷、精密金属零件的烧结与热处理
高校、科研院所的材料热处理实验教学与研究
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