NGK 日本碍子株式会社半导体静电吸盘

日本NGK（日本碍子株式会社 NGK Insulators, Ltd.）半导体静电吸盘

NGK半导体静电吸盘（ESC Electrostatic Chuck）是半导体晶圆制造设备当中的关键陶瓷核心部件，由日本碍子株式会社NGK Insulators研发制造，主要部署在刻蚀、薄膜沉积、离子注入等真空工艺腔体内部。不同于传统机械夹具夹持晶圆，静电吸盘依靠静电作用力将硅晶圆牢牢吸附在陶瓷表面，消除机械夹爪对晶圆边缘造成的压痕、崩边损伤，同时可以利用晶圆有效区域，提高芯片良品产出。

产品采用高纯度氮化铝或者氧化铝陶瓷作为基材，陶瓷本体致密、绝缘性优良、真空放气率极低，不会对腔体工艺环境造成污染。产品包含库伦型以及约翰森‑拉贝克（JR）两种吸附类型，可以适配不同工作电压，应对各类半导体工艺工况。静电吸盘在吸附晶圆的同时，能够配合温控回路实现晶圆整体温度均匀化，抑制加工过程晶圆翘曲变形，保障整片硅片刻蚀、镀膜工艺的均匀一致性。该部件耐等离子腐蚀性能优秀，可以长期工作在强腐蚀等离子腔体环境，使用寿命优异。支持8英寸、12英寸主流半导体晶圆规格，既可以作为新设备配套部件，也可用于半导体产线设备维护备件替换，广泛应用于芯片制造工厂、半导体设备厂商。

日本 NGK 日本碍子株式会社半导体静电吸盘 技术参数

日本 NGK 日本碍子株式会社半导体静电吸盘 产品核心优势

• NGK先进陶瓷工艺，陶瓷基材致密绝缘，真空下放气量低，不污染工艺腔体；

• 静电吸附代替机械夹爪，避免晶圆边缘崩边压伤，提高晶圆有效芯片面积；

• 具备晶圆温控能力，整片硅片温度分布均匀，提升刻蚀镀膜工艺一致性；

• 库伦型、JR型多吸附类型可选，适配不同电压、不同工艺条件；

• 耐等离子腐蚀，可长期在刻蚀腔体恶劣环境工作，部件使用寿命长；

• 覆盖8/12英寸主流晶圆规格，可用于新机配套，也支持产线备件替换。

主要应用领域

半导体刻蚀工艺腔体；PVD/CVD薄膜沉积设备；离子注入设备；8寸12寸硅片夹持固定；半导体设备原厂配套；芯片产线维护备件更换。