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ASM401N 小型 UV 臭氧清洗机

ASM401N 小型 UV 臭氧清洗机

更新日期:2026-08-13

访问量:6

厂商性质:经销商

生产地址:日本

简要描述:
日本 ASM 原装 ASM401N 小型 UV 臭氧清洗机,紧凑型台式紫外臭氧干式清洗设备,利用紫外臭氧光氧化去除硅片、ITO 玻璃、石英基板表面有机污渍,实现材料表面亲水化改性;定时可控,配置臭氧排气接口,占用空间小,广泛用于光电半导体、材料研发、高校科研实验室样品前处理。

ASM401N 小型UV臭氧清洗机|紫外臭氧表面处理机

日本 ASM ASM401N 小型 UV 臭氧清洗机 紫外臭氧表面处理机 产品简介:ASM401N是日本ASM推出的小型UV臭氧清洗机,属于紧凑型干式表面处理设备,适合实验室小尺寸试样的前处理工作。设备依靠低压紫外灯管输出185nm与254nm双波段紫外光线,185nm紫外光激发空气中氧气生成臭氧,254nm紫外光直接破坏有机物分子链,二者协同发生光氧化反应,分解样品表面油脂、手印残留、有机杂质,在完成清洗的同时实现材料表面亲水化改性,有效提高后续镀膜、粘接、涂层的结合力。整机采用台式小型箱体结构,占地面积小,直接放置于实验台即可使用,不需要复杂配套。设备配置密闭处理腔体,将试样放入腔体内部样品平台,设置处理时间即可启动工作;配备臭氧排气接口,可以外接臭氧尾气处理装置,减少臭氧扩散,保障实验人员安全。全程无需有机溶剂,没有化学废液产生,工艺重复性好,广泛用于光电、半导体、薄膜材料、高分子以及高校科研院所的样品预处理。

日本 ASM ASM401N 小型 UV 臭氧清洗机 紫外臭氧表面处理机 技术参数

设备品牌ASM(日本)
设备型号ASM401N
清洗原理185nm/254nm双波段紫外+臭氧光氧化干式清洗
腔体结构小型密闭处理腔体,内置样品放置平台
适配试样硅片、ITO玻璃、石英基板、薄膜、高分子小尺寸样品
控制方式定时控制,可自定义清洗处理时长
安全配置臭氧排气接口,支持外接尾气处理单元
整机形态台式紧凑型箱体,放置实验台使用
光源类型专用低压紫外灯管
供电规格AC100‑240V宽电压

产品核心优势

  • 日本ASM原厂ASM401N小型UV臭氧清洗机,体积小巧,节约实验室台面空间;

  • 双波段紫外与臭氧协同作用,高效去除基板有机残留,同时完成亲水化表面改性;

  • 干式清洗方式,不使用化学溶剂,无废液,更加环保,简化实验操作流程;

  • 定时运行,处理时间精准可调,实验工艺可复现,适合科研标准化样品处理;

  • 密闭腔体搭配排气接口,可对接臭氧处理装置,降低臭氧泄漏风险;

  • 结构简单,灯管拆装更换便捷,维护成本低,适合小批量试样反复处理。

典型应用领域

光电半导体领域小尺寸硅片、ITO导电玻璃、石英基板有机污染物去除;薄膜涂层实验基底预处理,提升薄膜附着力;高分子材料亲水化表面改性;高校及科研院所材料、化学、光电方向课题试样前处理;企业研发实验室各类样品干式表面清洗改性。


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