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PHF‑2K‑P 脉冲型高频高压等离子电源

PHF‑2K‑P 脉冲型高频高压等离子电源

更新日期:2026-08-15

访问量:12

厂商性质:经销商

生产地址:日本

简要描述:
PHF‑2K‑P 脉冲型高频高压等离子电源,脉冲输出降低工件热损伤,用于真空等离子清洗、活化、材料表面改性;面板参数可调,支持外部设备联动,适配半导体、高分子新材料科研与小批量试样处理。

PHF‑2K‑P脉冲型高频高压等离子电源|真空等离子工艺专用脉冲供电主机

PHF‑2K‑P 脉冲型高频高压等离子电源 等离子处理机供电主机 产品简介:PHF‑2K‑P脉冲型高频高压等离子电源为真空等离子处理系统的专用供电设备,专门为材料等离子表面处理工艺开发。设备采用脉冲输出工作模式,区别传统连续式电源,脉冲工作方式能够有效控制热输入,大幅降低被处理工件的热累积,对于薄膜、高分子等热敏基材,能够有效避免受热变形、老化损伤问题。该电源输出稳定的高频高压,能够激发真空腔体内产生均匀等离子体,可实现试样表面清洗除污、表面活化、接枝改性、微刻蚀等多种工艺。设备自带操作控制面板,工艺参数可以直观设定与调整,同时预留外部控制信号接口,能够和真空腔体设备进行联动,实现整套系统协同运行。设备内置的过载、异常保护机制,提升设备运行安全性。电源主机与处理腔体采用分体布局,安装摆放灵活,既适合高校科研实验室做材料工艺研发实验,也可以用于中小试样小批量等离子处理生产,广泛用于高分子、半导体、新材料等领域。

PHF‑2K‑P 脉冲型高频高压等离子电源 等离子处理机供电主机 技术参数

设备型号PHF‑2K‑P
设备类型脉冲型高频高压等离子电源
输出形式脉冲高频高压输出
配套设备真空等离子处理腔体
主要工艺等离子清洗、活化、表面改性、微刻蚀
工艺优势脉冲模式,抑制工件热效应,保护热敏基材
操作控制本机面板设置,支持外部信号联动控制
安全设计内置过载、异常工况保护电路
适用场景科研实验室、中小批量试样等离子处理
适配基材高分子薄膜、塑胶、半导体元器件、各类试样

产品核心优势

  • 脉冲输出架构,减少热输入,热敏材料加工不易发生热变形损伤;

  • 高频高压输出稳定,激发等离子均匀,保障表面处理效果一致性;

  • 本机面板参数可调,操作直观,同时支持外部联动控制腔体;

  • 一机兼容清洗、活化、改性、刻蚀多种等离子工艺,通用性强;

  • 多重电路保护,过载异常自动防护,设备运行安全可靠;

  • 分体式结构,主机腔体分离,布局灵活,适配实验室与小产线。

典型应用领域

高分子薄膜、塑胶件等离子表面活化改性;半导体元器件等离子清洗除污;高校科研实验室等离子工艺实验;各类基材表面微刻蚀、化学接枝处理;粘接印刷前等离子预处理,提升表面附着力;中小试样真空等离子整套工艺配套。


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