一、日本 C&A 株式会社 0-01 u-PD 单晶结晶育成装置 商品基础基本信息
| 项目 | 详细内容 |
|---|---|
| 品牌全称 | C&A Corporation（日本C&A株式会社） |
| 完整商品名称 | 0-01 u-PD单晶结晶育成装置 |
| 产品别名 | u-PD微型单晶生长炉、半导体晶体提拉育成设备、高温单晶结晶培育炉 |
| 产品型号 | 0-01 |
| 产品分类 | 半导体晶体制造设备、单晶提拉结晶炉、高温材料晶体育成装置 |
| 适用行业 | 半导体研发、光电单晶材料实验室、高校材料学院、化合物半导体企业、光学晶体科研实验室 |
| 适配加工材料 | 碳化硅SiC、氮化镓GaN、氧化物光学单晶、宽禁带半导体晶体、特种功能单晶材料 |
| 出厂标准配置 | 0-01 u-PD单晶育成主机、高精度提拉传动模组、30kW射频加热电源、密闭气氛腔体、高精度温度控制系统、人机交互触控操作台、原厂晶体生长工艺调试手册、设备安装施工说明书、出厂温场/提拉精度检测校准报告 |
| 可选拓展配件 | 多组分气氛供气模组、真空分子泵机组、晶体直径实时监测模块、上位机生长曲线数据采集软件、水冷循环机组、耐腐蚀高温坩埚套件 |
二、商品核心关键词
标题关键词：C&A 0-01 u-PD单晶结晶育成装置、实验室单晶提拉生长炉、半导体晶体育成设备
用途关键词：实验室半导体单晶生长、光电晶体材料育成
功能关键词：高精度晶体提拉、30kW射频高温加热、密闭气氛控温
款式/材质关键词：立式一体化工业炉体、耐高温合金腔体
扩展关键词：全自动温场控制、科研级单晶制备设备
三、产品简介
日本C&A株式会社0-01 u-PD单晶结晶育成装置，是科研实验室专用微型单晶提拉生长设备，面向第三代宽禁带半导体、光学功能单晶研发场景设计。设备搭载30kW射频感应加热系统，可实现超高稳定高温温场；配备高精度闭环提拉传动模组，提拉速度、行程微米级精准调控；整机密闭承压气氛腔体，可通入氩气、氮气等保护气氛，适配SiC、GaN、氧化物光学单晶等多种特种晶体的定向结晶培育。
设备配套独立触控人机交互系统，全流程自动化设置生长温区、提拉曲线、气氛压力参数，实时采集存储晶体生长全过程温度、位移、功率数据；出厂完成高精度温场均匀性、提拉重复精度计量校准，满足高校材料实验室、半导体企业研发中心、光电材料科研机构的单晶样品制备、新材料晶体工艺研发需求，是第三代半导体、光学单晶前沿科研核心工艺设备。
四、日本 C&A 株式会社 0-01 u-PD 单晶结晶育成装置 核心工作原理
1. 射频感应高温加热原理：搭载30kW大功率射频电源，通过电磁感应对坩埚内原料进行快速升温熔融，构建均匀、稳定、梯度可控的高温温场，满足单晶原料熔融、定向结晶的温度条件。
2. 微米级闭环提拉结晶原理：高精度伺服提拉传动模组，采用闭环位移反馈控制，提拉升降速度、位移、旋转转速均可数字化精准设定；籽晶夹持装置缓慢提拉熔融液面，在温场梯度作用下，熔体沿籽晶定向有序析出，生长完整单晶。
3. 密闭气氛保护腔体原理：整机全密封承压炉腔，可接入惰性保护气氛（Ar/N₂），隔绝空气氧化高温熔体；可选真空机组实现高真空环境，适配易氧化、易挥发特种半导体单晶生长。
