一、CHO-ONPA UAM-4 MK3 超声波液体浓度分析仪 产品基础信息
| 项目 | 详情 |
|---|---|
| 品牌型号 | CHO-ONPA UAM-4 MK3 超声波液体浓度分析仪 |
| 测量原理 | 超声波声速检测法，结合温度补偿换算液体实时浓度 |
| 核心用途 | 各类水溶液、腐蚀药液在线连续浓度监测，对接自动化配药系统 |
| 典型应用 | 半导体湿法蚀刻清洗、电镀、化工药液调配、水处理药剂监控 |
二、核心规格参数
| 参数项 | 规格说明 |
|---|---|
| 硬件构成 | 超声检测探头、主控显示单元；支持浸入、管道法兰两类安装 |
| 信号输出 | 标配4-20mA模拟量，可选RS485数字通讯接入PLC中控 |
| 补偿能力 | 内置温度传感器，全自动温度补偿，消除温度对声速的干扰 |
| 可选拓展 | 旁路流通池、探头自动清洗器、防爆外壳、数据记录模块 |
三、产品核心特点
1.无电极检测，适配强腐蚀药液
区别于电导浓度计，不依赖电极导电，探头可耐受强酸强碱，大幅降低腐蚀造成的备件损耗，适配半导体等特殊药液。
2.在线实时监测，支撑自动化配药
持续输出浓度数据，联动加药、补水阀门实现药液浓度闭环自控，减少人工化验，提升工艺稳定性。
3.抗浊度干扰更广的适配范围
相比折光式浓度计，液体轻微浑浊、少量悬浮物基本不影响测量，可适配浆料、乳化液场景。
4.安装改造便捷
可直接投入现有药槽，也可加装旁路管路安装，旧产线升级无需大规模改造槽体。
四、适用行业场景
半导体：湿法清洗、蚀刻药液浓度监控；
表面处理：各类电镀液在线检测；
化工水处理：反应药剂、中和液浓度管控。
五、安装使用注意事项
探头避开进液口剧烈起泡区域，气泡会散射超声波造成测量偏差；定期清洗探头结晶附着物；
使用对应药液专用标定曲线，定期用标准溶液校准设备。
