ADTEC TX 系列高周波射频电源,是日本 ADTEC 面向工业等离子工艺推出的紧凑型高性能机型,广泛应用于半导体制造、光学面板处理、材料表面改性等场景,为等离子清洗、刻蚀、薄膜沉积等工艺提供稳定的射频能量。
一、ADTEC高周波射频电源TX 系列 核心性能与技术特点
- 耐反射线性放大技术设备搭载耐反射 AB 级线性放大器,可承受等离子负载波动带来的高反射功率,有效降低工艺过程中因负载变化导致的电源损坏风险,提升复杂工艺环境下的运行稳定性,减少设备停机维护成本。
- 紧凑型半机架设计相比前代机型,TX 系列采用小型化半机架机箱,宽度与重量均降至原有机型的 1/2 以下,大幅节省机柜安装空间,适配产线设备集成与实验室紧凑布局需求,便于在有限空间内完成多设备安装。
- 丰富的扩展功能配置设备支持脉冲输出模式,可调节脉冲占空比,实现等离子体精细化控制;可选 VF 可变频率功能,可在设定频段内微调输出频率,优化不同负载下的等离子体匹配效果;内置电弧抑制功能,可快速识别并抑制等离子弧光,保护电源与工艺腔室,降低工艺中断风险。
二、规格与适配性
输出功率覆盖 300W~5000W,主流型号含 300W、600W、1000W、2000W、5000W,可根据工艺需求灵活选择;
标准输出频率为 13.56MHz,支持 VF 可变频率功能,适配不同工艺的等离子体激发需求;
冷却方式可选风冷或风冷 + 水冷,适配不同功率段与工况环境;
支持 RS-232 通讯接口,可选配 EtherCAT 工业通讯模块,可无缝接入自动化产线,实现远程控制与数据交互。
三、ADTEC高周波射频电源TX 系列 应用场景
半导体制造:晶圆等离子刻蚀、薄膜沉积、表面清洗工艺;
面板与光学:LCD/OLED 面板清洗、光学元件表面改性;
材料处理:高分子材料表面活化、提升粘接与涂覆附着力;
科研研发:等离子体物理实验、新型工艺开发与验证。
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