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日本microphase卧式CNT/石墨烯合成装置 透气度仪

日本microphase卧式CNT/石墨烯合成装置 透气度仪

更新日期:2022-12-01

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厂商性质:经销商

生产地址:

简要描述:
日本microphase卧式CNT/石墨烯合成装置MPCVD-Graphene
这是用于合成石墨烯薄膜的管式炉(50mmφ)型热CVD设备。

日本microphase卧式CNT/石墨烯合成装置MPCVD-Graphene

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目的:这是用于合成石墨烯薄膜的管式炉(50mmφ)型热CVD设备。

特征

  •  配备炉膛滑动机构,可快速加热/冷却样品

  •  三系统质量流量气体流量控制系统,实现精准气体控制

  •  紧凑坚固的外壳设计,易于安装在桌面实验室工作台等。

  •  [选项] 可增加电机驱动的自动滑动功能。

  •  [选项] 通过增加涡轮排气泵,可以沉积更高质量的石墨烯。

  •  [选项] 可将热电偶传感器引入炉内,直接监测样品温度。

基板的快速冷却据说是通过使用碳氢化合物气体(CH4 和 C2H2)的 CVD 方法在催化剂基板(Ni、Cu 等)上生长石墨烯薄膜的重要因素之一。

 该装置配备了仅允许加热部分滑动而炉芯管保持原样的机构。这种滑动机构允许炉子的热区快速从样品位置移开,从而使样品快速冷却。此外,通过安装可选的高真空排气系统,可以轻松沉积更大面积的单层石墨烯薄膜。

使用高真空泵系统(可选)沉积的单层石墨烯/Ni 的拉曼光谱

日本microphase卧式CNT/石墨烯合成装置MPCVD-Graphene

规格

基本配置管式炉正常使用温度400-1000℃
炉内尺寸60mmφ×L260mm
温度控制1区可编程温度控制器
外形尺寸W300mm x H200mm x D186mm
电容700W
芯管材料石英
尺寸OD50mm x ID46mm x L1200mm
气体控制质量流量控制器
引入气体类型

载气:N2或Ar

还原气体:H2

碳氢化合物气体:C2H2 或 C2H4 或 CH4

真空计波登管真空计
排气泵回转泵
液体物料引入系统
用于芯管测量的热电偶(选项)
急冷滑动机构(滑动距离:250mm)
外形尺寸W1400mm×H1000mm×D500mm



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